美国在出口管制上又有新的举措。
据报道，1月28日，美国、荷兰和日本就限制向中国出口先进芯片制造设备达成协议，其中将会涉及ASML、尼康、东京电子等企业的设备产品。
虎嗅向半导体业内人士、从事出口管制方面的律师求证，证实了该消息。迄今为止，美国、日本和荷兰政府尚未对具体细节进行公布。
1月30日，在光刻机巨头阿斯麦（NASDAQ:ASML）向虎嗅提供的一份官方声明中确认，几国政府间就达成一项侧重于先进制程芯片制造技术的协议有了最新进展，其中将包括但不限于先进制程的光刻系统。
ASML的声明中提及，在这项协议生效之前，必须详细说明并落实到立法中，这需要时间。其在中国的业务以成熟制程为主。
目前，尚无法就细节以及新的出口管制规则对中期和长期财务、组织和全球行业的影响发表任何声明。基于政府官员的声明、立法进程时间表、不同条款的生效日期，加之目前的市场形势，ASML预计这些措施不会对其发布的2023年预期产生实质性影响。
在这项新的协议中，最大的变化莫过于，对华的出口管制，从原来的EUV光刻机扩展到浸润式光刻机（DUV）。
这项新的协议将会对中国半导体产生什么影响？又该如何应对？
可能发生的新变化
ASML的光刻机有四大类，一种是EUV，也就是极紫外光刻机，用于生产7nm制程及以下的芯片；第二类是用于生产制程在7nm及以下制程的最新型浸润式光刻机；第三种是用于生产制程在40nm／28nm／14nm／7nm的浸润式光刻机；第四种就是生产55nm及以上制程的干式光刻机。
业界证实，目前对于第一类和第二类的光刻机大概率会被禁运，成熟制程的芯片生产不会受到影响。
目前，除了ASML，日本尼康也能够量产用于生产7nm及以下制程的浸润式光刻机。
一位半导体研发专家表示，如果浸润式光刻机禁运，那么对于已有机台也会受到影响，主要的影响集中在光源以及关键零件的更换上，最新型号的浸润式光刻机能够提供更大制程的宽度以及提升良率。
美国的供应链话语权
多位业内人士都表达了一个观点，如今已很难用正常的商业手段去看待美国的出口管制，而已经是大国博弈的视角。这一点，从这一次美国是直接与日本和荷兰政府谈判，而不是与企业谈判就可见一斑。
一直以来，美国通过技术、市场和金融控制的方式获得在供应链中的话语权，这也使得诸多半导体企业不得不顺应美国的要求。
如果细究ASML公司的股权结构可以发现，有50%的股权资本控制来自美国。而拆解ASML光刻机后也会发现，其中的大部分关键零部件来自美国的供应商。