掩膜版被形象地比喻成“相机底片”。这片薄薄的材料可以根据要求刻画出不同的镂空图案，在面板生产时，通过光照在衬底上留下它的“分身”，就像“拍照”一样。作为母版的掩膜版是决定面板精细化程度的关键。
掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工 艺技术等知识产权信息的载体。在光刻过程中，掩膜版是设计图形的载体。通过光刻，将掩膜版上的设计图形转移到光刻 胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的转移，功能类似于传统照相机的“底片”。
据中研普华产业院研究报告《2023-2028年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》分析
掩膜版成本构成以直接材料和制造费用为主，分别占比 67%和 29%。其中直接材料主要包括掩膜版基板、遮光膜及其他辅助材料等，掩膜版基板占直接材料的比重超过 90%。
掩膜版成本构成
我国巨大的市场需求为国内掩膜版厂商提供了肥沃的成长土壤。但是从供给端来看，国内掩膜版厂商的供给能力与国外厂商相比仍存在较大差距。目前，四家头部掩膜版企业——Photronics福尼克斯、SKE、HOYA以及LG-IT的平板显示掩膜版销售额合计占全球的近80%。而中国厂商只有清溢光电和路维光电在全球供应端占据了一席之地，合计销售额占比约为14.6%。
掩膜版行业竞争格局
掩膜版的主要玩家有日本的SKE、HOYA、DNP、Toppan、韩国的LG-IT、美国的福尼克斯、中国台湾的台湾光罩以及中国大陆的路维光电、清溢光电等，行业集中程度较高。根据各公司2022年年报营业收入数据，我国主要厂商为台湾光罩、路维光电、清溢光电，占比分别为15%、5%和6%。
图表：2022年掩膜版企业竞争格局
掩膜版行业重点企业分析