掩膜版作为平板显示制造过程的关键材料，对面板产品的精度起决定性的作用,这也意味着对掩膜版的精度提出了更高的技术要求。掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
掩膜上承载着设计图形，光源投过掩膜并将图形投影在光刻胶智商。因此掩膜性能直接决定了光刻工艺的质量。目前制程制程用较为常用的工艺为投影式光刻，掩膜不直接与晶圆表面接触。平板显示技术持续更新与发展，加之5G传输技术同步推进，超高清视频产业发展前景广阔。高分辨率终端显示产品的不断渗透与发展也必然会带动掩膜版朝着高精细化的方向发展。
根据中研普华产业研究院发布的《2021-2025年中国掩膜版行业发展趋势及投资预测报告》显示：
自从国内第一张大面积高精度铬版掩膜版研发生产开始，我国掩膜版行业经历萌芽期、快速发展期和高质量发展期。在快速发展期内，我国掩膜版迭代速度较快，不断填补国内空白。2019年我国自主研发11代掩膜版后，迈入国际先进行列，进入高质量发展期。
近年来随着平板显示解析度不断提高，TFT半导体主动层材料已逐步采用LTPS/Oxide技术，并朝着LTPO(低温多晶氧化物〉等新技术演变。对于掩膜版的配套技术要求，主要体现在曝光分辨率(最小线宽线缝)、最小孔或方块、CD均匀性以及套合精度的不断提升。
数据显示，我国掩膜版行业起步较晚，历年新注册企业数量较少。截至2023年1月3日，中国掩膜版行业注册企业累计共有282家，其中2017年新注册企业数量创历史高峰，为28家。2021年，我国掩膜版行业新注册企业数量为8家。2022年，我国掩膜版行业新注册企业数量1家。
随着人们消费的不断升级，屏幕的大尺寸化已成为平板显示持续的演进方向。这主要是因为平板显示新的画质规格提升都集中在大尺寸和超大尺寸上，尤其是55英寸及以上的产品。这些规格的改善包括8K分辨率、mini LED背光、量子点背光(QLED)、高色域、超窄边框、四面超窄边框、超纤薄、高动态范围(HDR)对比度等。由于这些新功能在32英寸、43英寸、50英寸这样的小尺寸上都无法实现，所以55英寸及以上的显示产品的需求持续升温。