财联社4月1日讯（编辑 旭日）半导体芯片板块近期表现强势，光刻机分支的概念龙头张江高科3月期间一度八天四板，当月累计最大涨幅达60%。上周五公告获大基金二期投资的晶瑞电材本周一录得20cm涨停，公司此前在互动易上表示目前拥有成系列的光刻机五台，用于光刻胶的研发。
此外，商务部部长王文涛近日会见荷兰阿斯麦公司全球总裁温宁克，双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。
据悉，光刻机作为半导体设备三大件之一，是人类文明智慧的结晶，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。
公开资料显示，光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，经过十余代的发展迭代，目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于5nm的分辨率。
根据全球半导体设备市场规模估算，2021年全球光刻机市场规模为181亿美元，预计2022年将达到201亿美元。全球光刻机前三大厂商的市场份额占比达90%以上，根据前三大厂商的销售数据显示，2015-2021年,全球光刻机销售量总体增长，2021年达478台。
光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon市场占有率超过90%，其中ASML由于其技术领先，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。ASML的光刻机技术在全球处于绝对领先地位，EUV领域ASML市占率为100%，ArFi、ArF领域市占率分别高达96%、88%。
国内光刻机产业起步较晚，与海外具体差距明显。1977年，清华大学精密仪器系、中科院光电所、中国电子科技集团公司第四十五研究所（简称中电科45所）等先后投入研制光刻机。我国也时隔近十年，研制出了具有一定代表意义的光刻机——接触式光刻机GK-3型半自动光刻机。